表面功函數分析系統 Kevin probe

介紹

開爾文探針系統可以精確測量不同半導體和導電材料的功函數，具有高精度和高精度。

非接觸式測量涉及振盪電容器，其中一個電極是試樣，另一個是由金柵格製成的振盪參考電極。因此，測量值參考金的功函數（5.1eV）。在足夠長的積分時間內，測量的分辨率可以達到0.1meV。開爾文探針系統可用於各種類型的表面研究，包括：腐蝕，吸附/解吸，表面充電，催化活性等。

為方便起見，探頭配有雷射筆和數位顯微鏡。電動垂直定位系統允許參考電極在距離樣品表面相同的距離內重現（精度為10微米）。可選配 X-Y定位裝置。

該系統還配備了寬帶光導，可與數控單色器和高壓氙弧燈配合使用。 300至1000nm的波長范圍可用於連續或脈衝樣品照射。這種配置允許測量表面的功函數和電荷，表面光電壓光譜和其他光物理技術，光電壓分辨率優於5 mV（當施加長積分時間時為0.1 mV）。

整個系統安裝在接地的法拉第廂中，以減少電噪聲和雜散光的影響。

該表面光電壓光譜儀是研究光催化劑，有機和無機半導體，太陽能電池和其他光活性材料和器件的重要工具。借助這種開爾文探針/表面光電壓光譜儀監測半導體的光致腐蝕，光電吸附和光催化反應也是可行的。

設計

1. 該裝置包括一個振盪式金探針，Z軸電動平台，電子控制單元和法拉第廂。

2. 將樣品放置在手動或電動XY平台上，在任一方向上的運動範圍為1.5cm。

3. 探針與Z軸平台連結，可以將其移動至在距樣品所需的距離處。

4. 紅光雷射指示器顯示測量期間探頭將振蕩的位置。

5. 系統被法拉第廂覆蓋，可透過USB顯微鏡和白色LED觀測。

6. 利用液體波導或光纖將光傳遞到樣品，從而消除了來自光源的可能的EM干擾。

7. 在閒置或資料存儲期間，脆弱的金探針被置於受保護的空間中以防止意外損壞。

8. 該系統還配備了自動樣品高度傳感器