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CVD Graphene
CVD Graphene
詳細介紹:
電漿反應系統
Femto Science
CVD Graphene
腔體尺寸: 55 Dia. × 1300 L, mm
腔體溫度: 最高1200˚ C
功率: 300W, 20 – 100 KHz
控制器: 7吋觸控面板，自動/手動控制
設備尺寸: 1750 × 700 × 1200 (W × D × H, mm)
選配套件: 300W RF產生器
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Coating System
電漿反應系統 Femto Science Coating System 水平式腔體: 203 Dia. × 440 L, mm 垂直式腔體: 300 Dia. × 400 L, mm 蒸發器溫度: 最高200˚ C 腔體溫度: 最高1000˚ C 控制器: 7吋觸控面板，自動/手動控制 設備尺寸: 1500 × 800 × 1180 (W × D × H, mm)
Etching System
電漿反應系統 Femto Science Etching System 電漿蝕刻系統 腔體尺寸: 9.2英吋 功率: 300W, 13.56 MHz 氣體管路: 最多6組 控制器: 7吋觸控面板，自動/手動控制 設備尺寸: 680 × 1100 × 1300 (W × D × H, mm)
Surface Treatment
電漿反應系統 Femto Science Surface Treatment 表面處理設備 設計精美，多種腔體尺寸及功率可供選擇，可加裝石英反應管，最高支援6組氣體管路。全面配備7吋觸控面板，可全自動系統控制。 腔體尺寸: 140 × 200 × 110 (W × D × H, mm) 功率: 100W, 20 – 100 KHz 控制器: 7吋觸控面板，自動/手動控制 設備尺寸: 580 × 580 × 340 (W × D × H, mm) 腔體尺寸: 200 × 220 × 160 (W × D × H, mm) 功率: 200W, 20 – 100 KHz 控制器: 7吋觸控面板，自動/手動控制 設備尺寸: 618 × 630 × 460 (W × D × H, mm) 腔體尺寸: 330 × 350 × 250 (W × D × H, mm) 功率: 300W, 20 – 100 KHz 控制器: 7吋觸控面板，自動/手動控制 設備尺寸: 780 × 760 × 800 (W × D × H, mm) 選配套件: 石英管(200 Dia. × 300 L, mm)、RF產生器(300W) 腔體尺寸: 客製化 功率: 最高2000W, 20 – 100 KHz 控制器: 7吋觸控面板，自動/手動控制 氣體管路: 最多6組 選配套件: 石英管、RF產生器
