詳細介紹:
光譜式模厚量測儀
Ellipso Technology
Elli-
光譜式反射儀
高速膜厚量測系統,1秒鐘內完成單點量測(依材料性質而異)。最高可量測3層薄膜(依材料性質而異),厚度範圍10nm – 50mm(依材料性質而異)。配備顯微鏡系統,光點大小可調整,適用於半導體、OLED、高分子、太陽能…等相關研究及材料厚度檢測。
系統特性
- 光源波長範圍: 450nm – 900nm
- 光點大小: 50mm、30mm、10mm
- 量測層數: 最多3層(依材料性質而異)
- 量測厚度範圍: 10nm – 50mm (依材料性質而異)
- 再現性: ± 1 Å
- 載台尺寸: 140mm x 130mm
- 可加裝單波長雷射激發光源
應用:
OPTION
- Thick film measurement
system : thickness range 1.0 ~ 300 um (mFFT *) - Beam spot
size : 4.0 um - Stage
size : 200 x 200 mm^2, 300 x 300 mm^2and others (ask for a customized stage size) Auto focusing system : Color CCD camera- Anti-vibration table
- Transmittance module