詳細介紹:
PL / TRPL / Upconversion 光譜儀 UniPLUX
產品特色:
- - 可以量測需求選擇白光、雷射或脈衝式雷射作為激發光源
- - 可選擇CCD或PMT偵測器
- - 可搭配顯微鏡升級為微區螢光偵測系統
- - 可進行PL / TRPL / Upconversion 分析
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雷射劃線機 Laser Marking
可數位控制切割劃線位置與軌跡之雷射劃線機,可用於晶圓片與半導體材料切割,免除傳統晶源刀鋸切割所衍伸之繁瑣製程。廣泛應用於太陽能行業單晶矽、多晶矽、非晶矽太陽能電池片(Cell) 和矽片(wafer)。 ★ 搭配精密移動平台 確保加工精度 ★ 搭配脈衝雷射 可瞬間完成加工且熱影響區域極小,確保加工精度 ★ 非接觸式加工 沒有刀削力作用於切割件,避免對加工材料表面造成損傷 規格 1. Wavelength = 532nm (3W) 2. Marking area : 80cm x 80cm 3. 速度: 100 mm/sec (Max speed) 4. 精度: 0.0006 mm/mm of travel 系統組成 實機光譜真空系統整合
★ 可擴空真空系統,進行實驗即時(in-line)偵測可攜式桌上型拉曼/螢光光譜儀 EZRam
產品特色 ★ Non-destructive testing and analysis (非破壞分析量測) ★ System can be upgraded to dual lasers (可搭配兩組雷射, 405, 532,633,785) ★ Dual lasers can be quickly switched (快速切換雷射, 無須重新校正) ★ The incident optical path can be used without fiber (無光纖入射設計避免能量損失) ★ 11 steps ND filter for adjusting laser power (快速切換11段功率調整) ★ 5 megapixels CMOS camera (影像觀測) 應用 QA / QC 臨場實驗拉曼分析 In‐situ Raman 表面汙染物分析 表面增強拉曼散射 (SERS) 多波長選擇之材料深度分析 (Multi-laser)低溫光譜系統 UniRAM Low Temperature Raman/PL Solution
客製低溫光譜系統 溫度可達 4k ~ 600k 產品特色 • High compatibility• BX43, microscope body• 1um Z-axis focusing module.• 10x, 20x, & 100x, plan objective lens as well as Long working distance M plan APO available• Koehler illumination system for high contrast imaging• 3M CMOS USB color camera• 11 steps ND filter for adjusting laser power• Up to 2 integrated lasers• Photoluminescence measurement as wellIn-line 顯微光譜影像探測系統 UniPRO
客製化顯微拉曼/螢光光譜系統,精簡化的設計整合光學組件、物鏡與數位相機,只需透過光纖雷射源與光譜儀,即可成為拉曼/螢光光譜系統。 ★ 搭配客製化的二維掃描載台,可進行大型樣品的拉曼光譜訊號掃描。 ★ 架設於生產線上,作為在線式產線監控系統。 ★ 可擴空真空系統,進行實驗即時偵測。 UniPRO 顯微光譜影像探測系統 UniPRO-M UniPRO-i 簡易拉曼/螢光光譜套件,獨家設計小尺寸光學元件整合模組,直接架設於光學顯微鏡上,再連接雷射源及光譜儀,即可升級為拉曼/螢光系統,各廠牌光學顯微鏡皆可支援。 UniProbe_im Series Brochure 下載吸收/反射/穿透光譜儀UniART
吸收/反射/穿透光譜儀 UniART 產品特色: - 內建白光激發光源 - 可選配雷射激發光源 - 偵測範圍200nm – 3000nm UV~NIR (需搭配不同偵測器) - 客製化樣品載具 - 可選配積分球與光源偏振片